Czyste pomieszczenia są wykorzystywane w różnych gałęziach przemysłu, takich jak mikroelektronika, produkcja półprzewodników i produkcja urządzeń medycznych.
Projektując pomieszczenia czyste wymagania dotyczące nich są bardzo surowe i sztywne. Powietrze w czystym pomieszczeniu musi być wolne od pyłu i innych cząstek, które mogą zanieczyścić wytwarzane produkty. Cząstki stałe mogą powodować wady urządzeń elektronicznych, chipów komputerowych itp. a nawet doprowadzić do ich awarii.
Aby utrzymać środowisko czystego pomieszczenia, należy spełnić następujące wymagania:
Kontrola zanieczyszczeń jest wymagana w celu uniknięcia narażenia produktów lub materiałów na zanieczyszczenia, które mogłyby je uszkodzić. Dotyczy to zarówno zanieczyszczeń przenoszonych przez powietrze (takich jak pył), jak i zanieczyszczeń powierzchniowych (takich jak oleje). Do tego celu powszechnie stosuje się systemy filtracji powietrza.
W całym pomieszczeniu czystym muszą być utrzymywane poziomy czystości powietrza określone przez jego przeznaczenie. Na przykład, zakłady produkcji półprzewodników często wymagają czystości na poziomie ISO 5 (99,999 procent wolnego od cząstek o wielkości 0,5 mikrona lub większych), podczas gdy zakłady produkcji farmaceutycznej mogą stosować czystość na poziomie ISO 7 (99,9997 procent wolnego od cząstek o wielkości 0,3 mikrona lub większych). Te wysokie standardy są utrzymywane przy użyciu filtrów HEPA (High Efficiency Particulate Air) i innych technologii filtracji powietrza zaprojektowanych specjalnie dla pomieszczeń czystych.
